半导体洁净厂房设计有哪些特点与技术指标

　　半导体洁净厂房是半导体制造过程中必不可少的环节，其洁净度和稳定性直接影响产品质量。那么半导体洁净厂房有哪些特点和技术指标呢?合洁科技电子净化工程带您去了解下吧!

　　一、特点

　　1、高洁净度：半导体洁净厂房洁净度要求高，一般达到万级以上，甚至更高。

　　2、稳定性：半导体制造过程对环境稳定性要求极高，如温度、湿度、压力、流速等都要保持稳定。

　　3、全自动化：半导体洁净厂房需要实现全自动化生产，减少人为因素干扰，提高生产效率和质量。

　　4、特殊材料：半导体洁净厂房使用特殊材料，如不锈钢、铝合金等，以确保洁净度和稳定性。

　　5、严格管理：半导体洁净厂房需要严格管理，如入厂前的消毒、穿戴特殊工作服、使用工具等都需要符合标准。

　　二、技术指标

　　1、洁净度：半导体洁净厂房的洁净度一般采用ISO标准，如ISO-14644-1等，洁净度级别越高，要求越严格。

　　2、空气流量：半导体洁净厂房的空气流量一般要求大，以保证空气的流动性和洁净度。

　　3、温度和湿度：半导体洁净厂房的温度和湿度要求非常高，如温度在20-24℃，相对湿度在45%-60%之间。

　　4、压力差：半导体洁净厂房的压力差一般为正压，以防止外部空气、粉尘等进入厂房，影响产品质量。

　　5、车间内的噪声级(空态)：不应大于65dB(A)。噪声检测仪器：噪声仪/声级计

　　结尾：以上就是半导体洁净厂房的特点和技术指标，只有保持高洁净度和稳定性，才能生产出高质量的半导体产品。