半导体净化车间建设及环境技术有哪些要求？

　　半导体工厂是用于制造半导体器件的生产设施。半导体器件是现代电子设备的关键组成部分，如计算机、手机、智能家居设备等。那么半导体净化车间建设及环境技术有哪些要求?今天就随合洁科技电子净化工程公司一起来了解下吧!

　　“半导体工厂”都生产什么?

　　半导体工厂通常被称为“晶圆厂"，因为它们制造的半导体器件是通过在晶圆上面制造芯片来实现的。晶圆是一种基于硅材料的圆片，通过在其表面上沉积、刻蚀、光刻等过程来制造芯片。

　　随着半导体制程技术的飞速发展，芯片线宽已经进入纳米级，相应的产品对半导体产品生产环境的要求也越来越高，因此半导体净化工程洁净室内系统的运行状态对硅芯片品质和通过率的影响举足轻重，净化洁净室的洁净等级也必须有一个公认的标准，比如以Class10为例，意谓在单位立方英寸的洁净室空间内，平均只有粒径0.5微米以上的粉尘10粒。所以Class后头数字越小，洁净度越佳，当然其造价也越昂贵。

　　半导体净化车间洁净度等级标准及要求

　　半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求，环境中杂质对半导体的特性有着改变或破坏其性能的作用，而杂质各式各样，如金属离子会破坏半导体器件的导电性能，尘埃粒子破坏半导体器件的表面结构等，所以在半导体器件生产过程中对什么都必须严格控制。

　　洁净室耗能为一般系统之5~10倍，在国内自产能源匮乏且面临能源消耗日益严重的情况下，如何提升无尘室系统的节能技术，以提升生产力与竞争力，是我们必须面对的课题。另外对洁净厂房的洁净度进行定期的人工巡检存在人力资源浪费的缺点，为了克服人工检测耗时费力的缺点，我们可以采用一些企业研发生产的CW-RPC系列多通道远程遥测激光尘埃粒子计数器及远程监控系统对洁净厂房进行7*24实时准确的精准监测，能够极大的提升我们的工作效率，节省人力成本。

　　半导体车间的基本要求

　　1、内部要保持大于一大气压的环境，以确保粉尘只出不进。所以需要大型鼓风机，将经滤网的空气源源不绝地打入洁净室中。

　　2、为保持温度与湿度的恒定，大型空调设备须搭配于前述之鼓风加压系统中。换言之，鼓风机加压多久，冷气空调也开多久。

　　3、所有气流方向均由上往下为主，尽量减少突兀之室内空间设计或机台摆放调配，使粉尘在洁净室内回旋停滞的机会与时间减至最低程度。

　　4、所有建材均以不易产生静电吸附的材质为主。

　　5、所有人事物进出，都必须经过空气吹浴 (air shower) 的程序，将表面粉尘先行去除。

　　6、人体及衣物的毛屑是一项主要粉尘来源，为此务必严格要求进出使用人员穿戴无尘衣，除了眼睛部位外，均需与外界隔绝接触 (在次微米制程技术的工厂内，工作人员几乎穿戴得像航天员一样。) 当然，化妆是在禁绝之内，铅笔等也禁止使用。

　　7、除了空气外，水的使用也只能限用去离子水 (DI water, de-ionized water)。一则防止水中粉粒污染晶圆，二则防止水中重金属离子，如钾、钠离子污染金氧半 (MOS) 晶体管结构之带电载子信道 (carrier channel)，影响半导体组件的工作特性。去离子水以电阻率 (resistively) 来定义好坏，一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格;为此需动用多重离子交换树脂、RO逆渗透、与UV紫外线杀菌等重重关卡，才能放行使用。由于去离子水是最佳的溶剂与清洁剂，其在半导体工业之使用量极为惊人!

　　8、洁净室所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气 (98%)，吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮!