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半导体洁净车间生产环境要求

2022-04-19
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目前国内在半导体洁净车间的技术已达到纳米级,但凡空间中存在着细小灰尘污染,将严重影响产品质量,甚至会出现废品的情况,因此在半导体洁净车间必须按高标准的条件要求进行配置,从EPC工程(总承包)的角度,具体分析半导体洁净车间在生产环境中的要求。


半导体洁净车间在洁净度等级要求较高,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控,一般环境参数设置如下:

1、该洁净车间内的噪声级不大于65dB(A)。

2、垂直流洁净车间满布比不小于60%,水平单向流洁净车间不小于40%,以防止局部单向流。

3、洁净车间与室外的静压差不小于10Pa,不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不小于5Pa。

4、补偿室内排风量和保持室内正压值所需的新鲜空气量之和。

5、保证供给洁净车间洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。

6、净化空调系统加热器设置新风,超温断电保护。


对静电要求极其严格,对湿度的要求更高,因为过于干燥的厂房内极易产生静电,造成CMOS集成损坏,因此电子厂房的温度应控制在22℃左右。相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内,允许误差在±1%的狭窄的范围内,例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小,而在其他地方则放松到±5%的范围内。细菌和其他生物污染(霉菌,病毒,真菌,螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖,一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长,所以湿度控制在处于40%至60%的范围之间时,可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至最低。而湿度低于30%则会让人感觉干燥,皮肤皲裂,呼吸道不适。


半导体洁净车间对环境洁净度、温湿度、振动、ESD、AMC控制等都有一定的要求,相比其他工业洁净车间,无论是生产集成电路器件、分立器件、光电半导体、逻辑IC、模拟IC、储存器......都有面积大、洁净等级高、温湿度控制精度高等特点。


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